摘要:GB/T 41153-2021标准2021年12月31日发布2022年07月01日实施,此标准规定了碳化硅单晶中硼、铝、氮杂质含量的二次离子质谱测试方法。此标准适用于碳化硅单晶中硼、铝、氮杂质含量的定量分析,测定范围为硼含量不小于5X1013cm-3、铝含量不小于5X1013cm-3氮含量不小于5X1015cm-3,元素浓度(原子个数百分比)不大于1%。注1:碳化硅单晶中待测元素的含量以每立方厘米中的原子数计。注2:碳化硅单晶中钒杂质含量的测定可参照此标准进行,测定范围为钒含量不小于1x1013cm-3c。国家标准《碳化硅单晶中硼、铝、氮杂质含量的测定 二次离子质谱法》由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口上报,TC203SC2(全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会)执行,主管部门为国家标准化管理委员会。
分类:冶金
更新:2025-01-17最后编辑
名称:GB/T 41153-2021 碳化硅单晶中硼、铝、氮杂质含量的测定 二次离子质谱法
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