GB/T 30867-2014

摘要:GB/T 30867-2014标准2014年07月24日发布2015年02月01日实施,此标准规定了碳化硅单晶片厚度及总厚度变化(TTV)的测试方法,包括接触式和非接触式两种方式。 此标准适用于直径不小于30mm、厚度为0.13mm~1mm的碳化硅单晶片。国家标准《碳化硅单晶片厚度和总厚度变化测试方法》由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口上报,TC203SC2(全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会)执行,主管部门为国家标准化管理委员会。

分类:电气工程

更新:2025-01-15最后编辑

GB/T 30867-2014 碳化硅单晶片厚度和总厚度变化测试方法

名称:GB/T 30867-2014 碳化硅单晶片厚度和总厚度变化测试方法

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