摘要:T/IAWBS 012-2019标准2019年12月27日发布2019年12月31日实施,碳化硅作为第三代高功率半导体新材料的代表,碳化硅器件已经获得了业界极大的期望和关注。面向市场的快速普及,对碳化硅抛光片的质量提出更高要求,高品质的呼声越发高涨。因此,快速检测单…《碳化硅单晶抛光片表面质量和微管密度测试方法 ——共焦点微分干涉光学法》团体名称为中关村天合宽禁带半导体技术创新联盟。
分类:C398 电子元件及电子专用材料制造
更新:2025-01-14最后编辑
名称:T/IAWBS 012-2019 碳化硅单晶抛光片表面质量和微管密度测试方法 ——共焦点微分干涉光学法
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