T/IAWBS 013-2019

摘要:T/IAWBS 013-2019标准2019年12月27日发布2019年12月31日实施,SiC是继第一代以Si为代表的半导体材料和以砷化镓为代表的第二代半导体材料之后的第三代宽禁带半导体材料,由于自身的物理性能的优势,碳化硅作为衬底材料在极端物理条件下具有得天独厚…《半绝缘碳化硅单晶片电阻率非接触测量方法》团体名称为中关村天合宽禁带半导体技术创新联盟。

分类:C398 电子元件及电子专用材料制造

更新:2025-01-14最后编辑

T/IAWBS 013-2019 半绝缘碳化硅单晶片电阻率非接触测量方法

名称:T/IAWBS 013-2019 半绝缘碳化硅单晶片电阻率非接触测量方法

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