摘要:GB/T 42905-2023标准2023年08月06日发布2024年03月01日实施,此标准描述了采用红外反射法测试碳化硅外延层厚度的方法。此标准适用于n型掺杂浓度大于1×1018cm-3的碳化硅衬底上同质掺杂浓度小于1×1016cm-3的同质碳化硅外延层厚度的测试,测试范围为3μm~200μm。国家标准《碳化硅外延层厚度的测试 红外反射法》由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口上报,TC203SC2(全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会)执行,主管部门为国家标准化管理委员会。
分类:冶金
更新:2025-01-17最后编辑
名称:GB/T 42905-2023 碳化硅外延层厚度的测试 红外反射法
本文来自AI建筑网整理分享,转载链接:https://www.aijianzhu.com/page/224475.html