T/CASAS 003-2018

摘要:T/CASAS 003-2018标准2018年11月20日发布2018年11月20日实施,SiC半导体材料以其独特的优异性能,特别适合制作高压、超高压功率器件。10kV级以上高压/超高压SiC功率器件多为垂直结构的双极型器件,如SiCPiN二极管、IGBT及GTO晶…《p沟道IGBT器件用4H碳化硅外延晶片》团体名称为北京第三代半导体产业技术创新战略联盟。

分类:A011 谷物种植

更新:2025-01-14最后编辑

T/CASAS 003-2018 p沟道IGBT器件用4H碳化硅外延晶片

名称:T/CASAS 003-2018 p沟道IGBT器件用4H碳化硅外延晶片

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