摘要:GB/T 1557-2018标准2018年09月17日发布2019年06月01日实施,此标准规定了采用红外光谱法测定硅单晶晶体中间隙氧含量的方法。此标准适用于室温电阻率大于0.1cm的N型硅单晶和室温电阻率大于0.5cm的P型硅单晶中间隙氧含量的测定。以常温红外设备测试时,氧含量(原子数)测试范围从1X1016cm-3到硅中间隙氧的最大固溶度;以低温红外设备测试时,氧含量(原子数)的测试范围从0.5X1015cm-3到硅中间隙氧的最大固溶度。国家标准《硅晶体中间隙氧含量的红外吸收测量方法》由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口上报,TC203SC2(全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会)执行,主管部门为国家标准化管理委员会。
分类:冶金
更新:2025-01-16最后编辑
名称:GB/T 1557-2018 硅晶体中间隙氧含量的红外吸收测量方法
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