GB/T 40279-2021

摘要：GB/T 40279-2021标准2021年08月20日发布2022年03月01日实施，此标准规定了采用光学反射法测试硅片表面二氧化硅薄膜、多晶硅薄膜厚度的方法。此标准适用于测试硅片表面生长的二氧化硅薄膜和多晶硅薄膜的厚度，也适用于所有光滑的、透明或半透明的、低吸收系数的薄膜厚度的测试，如非晶硅、氮化硅、类金刚石镀膜、光刻胶等表面薄膜。测试范围为15nm~105nm。国家标准《硅片表面薄膜厚度的测试 光学反射法》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口上报，TC203SC2（全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会）执行，主管部门为国家标准化管理委员会。