摘要:GB/T 39145-2020标准2020年10月11日发布2021年09月01日实施,此标准规定了电感耦合等离子体质谱法测定硅片表面金属元素含量的方法。此标准适用于硅单晶抛光片和硅外延片表面痕量金属钠、镁、铝、钾、钙、铬、锰、铁、钴、镍、铜、锌元素含量的测定,测定范围为108cm-2~1013cm-2。此标准同时也适用于硅退火片、硅扩散片等无图形硅片表面痕量金属元素含量的测定。注:硅片表面的金属元素含量以每平方厘米的原子数计。国家标准《硅片表面金属元素含量的测定 电感耦合等离子体质谱法》由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口上报,TC203SC2(全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会)执行,主管部门为国家标准化管理委员会。
分类:冶金
更新:2025-01-17最后编辑
名称:GB/T 39145-2020 硅片表面金属元素含量的测定 电感耦合等离子体质谱法
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