GB/T 34649-2017

摘要:GB/T 34649-2017标准2017年09月29日发布2018年04月01日实施,此标准规定了磁控溅射用钌靶的要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输、贮存、质量证明书和订货单(或合同)内容。此标准适用于微电子领域镀膜用磁控溅射钉靶(以下简称钌靶)。国家标准《磁控溅射用钌靶》由TC243(全国有色金属标准化技术委员会)归口上报,TC243SC5(全国有色金属标准化技术委员会贵金属分会)执行,主管部门为中国有色金属工业协会。

分类:冶金

更新:2025-01-16最后编辑

GB/T 34649-2017 磁控溅射用钌靶

名称:GB/T 34649-2017 磁控溅射用钌靶

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