GB/T 28274-2012

摘要：GB/T 28274-2012标准2012年05月11日发布2012年12月01日实施，此标准规定了微结构加工时,光刻版图设计中图形设计应遵循的基本规则。此标准适用于采用接触式单/双面光刻、氧化扩散、化学气相淀积(CVD)、物理气相淀积(PVD)、离子注入、反应离子刻蚀(RIE)、氢氧化钾(KOH)腐蚀、硅-玻璃对准静电结合、砂轮划片等基本工艺方法。国家标准《硅基MEMS制造技术 版图设计基本规则》由TC336（全国微机电技术标准化技术委员会）归口上报及执行，主管部门为国家标准化管理委员会。