YS/T 1025-2015

摘要:YS/T 1025-2015标准2015年04月30日发布2015年10月01日实施,本标准适用于电子薄膜用高纯钨及钨合金溅射靶材,以下简称高纯钨及钨合金靶。中文标题为《电子薄膜用高纯钨及钨合金溅射靶材》

分类:制造业

更新:2025-01-15最后编辑

YS/T 1025-2015 电子薄膜用高纯钨及钨合金溅射靶材

名称:YS/T 1025-2015 电子薄膜用高纯钨及钨合金溅射靶材

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