T/ZJATA 0017-2023

摘要:T/ZJATA 0017-2023标准2023年06月20日发布2023年07月20日实施,本文件包含了制备碳化硅半导体材料用化学气相沉积法(CVD)外延设备(以下简称“外延设备”)的产品分类、工作条件、技术要求、试验方法、检测规则、标志、包装、运输和贮存要求内容,对…《制备碳化硅半导体材料用化学气相沉积法(CVD)外延设备》团体名称为浙江省分析测试协会。

分类:C356 电子和电工机械专用设备制造

更新:2025-01-17最后编辑

T/ZJATA 0017-2023 制备碳化硅半导体材料用化学气相沉积法(CVD)外延设备

名称:T/ZJATA 0017-2023 制备碳化硅半导体材料用化学气相沉积法(CVD)外延设备

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